跳至主要內容
:::

編章節條文

第 三 章 製程設施
本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不適用本章規定:
一、產製食用酒精之製程。
二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。
三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十 mg/min (揮發性有機物排放量以甲烷表示)之批次操作製程。
四、排氣流量小於六十 Nm3/hr 之連續操作製程。
五、其他經中央主管機關公告之製程。
石化製程原物料或產品輸送管線不得破損,且排放管道排氣應以密閉集氣系統收集。但採密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者,不在此限。
前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者,應適用削減率之規定。
┌───┬─────┬──────┬─────────────┐
│污染源│適用對象 │排放標準 │備註 │
├───┼─────┼──────┼─────────────┤
│空氣氧│中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達一千│
│化單元│十六年二月│之九十或排放│五百 ppm 者僅適用排放濃度│
│及蒸餾│六日以前設│濃度一百五十│規定。但已達最佳可行控制技│
│操作單│立者 │ppm 以下 │術之效率者,不在此限。 │
│元 │ │ │ │
│ ├─────┼──────┼─────────────┤
│ │中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達二千│
│ │十六年二月│之九十五或排│ppm 者僅適用排放濃度規定。│
│ │七日以後設│放濃度一百 p│但已達最佳可行控制技術之效│
│ │立者 │pm 以下 │率者,不在此限。 │
├───┼─────┼──────┼─────────────┤
│其他石│中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達二千│
│化製程│十六年二月│之九十或排放│ppm 者僅適用排放濃度規定。│
│單元 │六日以前設│濃度二百 ppm│但已達最佳可行控制技術之效│
│ │立者 │以下 │率者,不在此限。 │
│ ├─────┼──────┼─────────────┤
│ │中華民國八│削減率達百分│控制或處理前排放濃度達三千│
│ │十六年二月│之九十五或排│ppm 者僅適用排放濃度規定。│
│ │七日以後設│放濃度一百五│但已以達最佳可行控制技術之│
│ │立者 │十ppm 以下 │效率者,不在此限。 │
└───┴─────┴──────┴─────────────┘
第一項以密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者,其鍋爐或加熱爐負荷應維持削減率達百分之九十五。
石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式者,其削減率達百分之八十五或排放濃度三百 ppm 以下。
石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定:
一、廢氣導入處設置流量計及連續紀錄設施。
二、設置溫度量測器及連續紀錄設施,設置位置如下:
(一)熱焚化爐爐膛內。
(二)觸媒焚化爐觸媒床前後。
(三)冷凝器冷凝液出口端。
三、使用前款以外之污染防制設備者,應設置足以有效監視其正常操作之連續監測及紀錄設施,並提出書面資料報經主管機關核可。
前項使用焚化設施為污染防制設備者,其溫度量測器所得之連續三小時平均溫度,不得低於標準操作溫度三十℃以上。
公私場所依第一項設置流量計有困難者,報請地方主管機關核可後,得以其他監測方式替代。