半導體製造業空氣污染管制及排放標準§1 相關法條-全國法規資料庫

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法條

法規名稱：	半導體製造業空氣污染管制及排放標準 EN

本標準依空氣污染防制法第二十條第二項及第二十三條第二項規定訂定之。

空氣污染防制法（民國 107 年 08 月 01 日） EN

公私場所固定污染源排放空氣污染物，應符合排放標準。

前項排放標準，由中央主管機關依特定業別、設施、污染物項目或區域會商有關機關定之。直轄市、縣（市）主管機關得因特殊需要，擬訂個別較嚴之排放標準，報請中央主管機關會商有關機關核定之。

第一項排放標準應含有害空氣污染物，其排放標準值應依健康風險評估結果及防制技術可行性訂定之。

前項有害空氣污染物之種類及健康風險評估作業方式，由中央主管機關公告之。

公私場所應有效收集各種空氣污染物，並維持其空氣污染防制設施或監測設施之正常運作；其固定污染源之最大操作量，不得超過空氣污染防制設施之最大處理容量。

固定污染源及其空氣污染物收集設施、防制設施或監測設施之規格、設置、操作、檢查、保養、記錄及其他應遵行事項之辦法，由中央主管機關定之。