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條文內容

法規名稱: 水污染防治措施及檢測申報管理辦法 EN
修正日期: 民國 108 年 03 月 08 日
法規類別: 行政 > 行政院環境保護署 > 水質保護目
第 49-9 條
晶圓製造及半導體製造業、光電材料及元件製造業、印刷電路板製造業、
電鍍業和金屬表面處理業符合下列情形之一者,其作業廢水應分流收集處
理:
一、中華民國一百零六年十二月二十七日前尚未完成工程招標。
二、中華民國一百零六年十二月二十七日後新增製程單元及廢(污)水處
理設施。
三、經主管機關查獲有繞流排放之情事涉及應進行工程改善。
四、違反本法相關規定,經主管機關裁處停工(業)或於限期改善期間內
自報停工(業)、其申請復工(業)。
前項事業應分流收集處理作業廢水,規定如下:
一、晶圓製造及半導體製造業、光電材料及元件製造業和印刷電路板製造
業:
(一)研磨或切割廢水。
(二)氟系(含氟)廢水。
(三)氫氧化四甲基銨(TMAH)有機廢水。
(四)氰系(含氰)廢水。
(五)鉻系(含鉻)廢水。
(六)銅系(含銅)廢水。
二、電鍍業、金屬表面處理業:
(一)氰系(含氰)廢水。
(二)鉻系(含鉻)廢水。