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條文內容

法規名稱: 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 EN
法規類別: 行政 > 行政院環境保護署 > 空氣品質保護目
第 5 條
依前條規定收集至污染防制設備處理之廢氣,其流量計及空氣污染物濃度
連續自動監測器設置規定如下:
一、污染防制設備之廢氣導入處或排放口應設置流量計。
二、揮發性有機物年用量大於五○噸之工廠其揮發性有機物防制設備之廢
氣排放口應設置濃度監測器。
三、揮發性有機物工廠總排放量大於等於○‧六kg/hr 者,其揮發性有機
物防制設備之廢氣導入處及排放口應設置濃度監測器。
四、流量計及濃度監測器之有效每季監測率應大於八○%,每年至少以標
準檢測方法比測一次,比測時間每次至少二小時,所設置之流量計及
濃度監測器所得之結果應以上次比測結果修正之。
未依前項規定設置流量計及污染物濃度監測器者,得提出其他可證明其排
放污染物符合前條規定之替代監測方案,報請中央主管機關認可。