本標準依空氣污染防制法第二十條第二項、第二十二條第二項、第三項及
第二十三條第二項規定訂定之。

本標準專有名詞及符號定義如下：
一、揮發性有機物 (Volatile Organic Compounds, VOCs) ：指含有機化
合物之空氣污染物總稱。但不包括甲烷、一氧化碳、二氧化碳、碳酸
、碳化物、碳酸鹽、碳酸銨等化合物。
二、石化製程：指以化學或物理操作產製各類石油產品、石化基本原料、
石化中間產品或石化產品之製造程序，包括產製各類有機化學品、樹
脂、塑膠、橡膠及合成纖維原料等產品。
三、揮發性有機液體：指含揮發性有機物成份佔重量百分比一○以上之液
體。
四、密閉排氣系統 (Closed Vent System) ：指可將設備或製程設備元件
排出或逸散出之揮發性有機物，捕集並輸送至污染防制設備，使傳送
之氣體不直接與大氣接觸之系統。該系統包括管線及連接裝置。
五、污染防制設備：指處理廢氣之熱焚化爐、觸媒焚化爐、鍋爐或加熱爐
等密閉式焚化設施、冷凝器、吸附裝置、吸收塔、廢氣燃燒塔或其他
經主管機關認定者。
六、製程回收系統：指用以回收製程排出物中有機物成分之一個或數個回
收設備之組合，屬原製程中考量經濟因素，欲達設計產能不可或缺之
設備。
七、非破壞性物料回收處理方式：指製程回收系統以外所額外加裝之污染
防制設備，具有回收物料之功能，以減少因破壞性燃燒生成額外之空
氣污染物。
八、標準操作溫度：指焚化設施於焚化廢氣後符合規定排放濃度值或達排
放削減率之操作條件下，其溫度監測設施量測之平均溫度。
九、廢氣燃燒塔：指煉油廠及石化廠中一種開放式燃燒裝置，該裝置包括
具支撐結構之塔身、燃燒嘴、母火裝置 (Pilot)、輔助燃料系統、點
火裝置及其他附屬設施。可分為高架廢氣燃燒塔及地面廢氣燃燒塔。
十、蒸氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用蒸氣噴嘴將蒸氣噴入火
焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之廢氣燃燒塔
。
十一、空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔：指焰頂處使用強制送風方式將空氣
噴入火焰中，藉以增加焰頂處空氣紊流效應，促使燃燒更完全之廢
氣燃燒塔。
十二、批次操作：指不連續操作，即系統之進料與出料不在相同時間發生
，當所有進料反應完成後，才進行出料之操作。
十三、空氣氧化單元：指一種或多種有機物與空氣或空氣與氧氣之混合氣
體，經由氧化反應、氧氯化反應或氨氧化反應生成一種或多種有機
產物、中間產物之製程單元。
十四、蒸餾操作單元：指藉氣液相平衡原理分離進料中不同沸點揮發性有
機物成分之製程單元。
十五、其他石化製程單元：指空氣氧化單元及蒸餾操作單元以外之石化製
程單元。
十六、固定式頂蓋 (Fixed Roof) ：指以固定方式裝設於儲槽上之頂蓋，
不隨液面高低昇降者。
十七、浮動式頂蓋 (Floating Roof)：指以浮動方式裝設於儲槽上之頂蓋
，且該頂蓋係直接與液體表面接觸並隨液面高低昇降，為浮筒式 (
Pontoon-type) 或雙板層式 (Double-deck-type) 頂蓋，簡稱浮頂
。
十八、非接觸式內浮頂蓋 (Noncontact Internal Floating Roof)：指浮
頂之板層 (Deck) 位於浮筒上而使板層高於液面數英吋者。
十九、固定頂槽 (Fixed Roof Tank)：指儲槽之頂蓋為固定式，且無另設
浮頂者。
二十、外浮頂槽 (External Floating Roof Tank)：指儲槽之頂蓋為浮動
式，且其上方無另設固定式頂蓋者。
二十一、內浮頂槽 (Internal Floating Roof Tank)：指儲槽頂蓋為浮動
式，其上方並具有固定式頂蓋者。
二十二、封氣設備 (Closure Devices)：指浮頂邊緣與儲槽內壁間之密封
裝置 (Seal) 。
二十三、液態鑲嵌式密封 (Liquid-Mounted Seal)：指以泡棉或液體充填
之密封彈性體與儲存物料液面接觸之封氣裝置。
二十四、雙封式密封 (Two Seals)：指浮頂邊緣與儲槽內壁間裝設二層封
氣設備者。密封在下之層稱為初級密封，密封在上之層稱為二級
密封。
二十五、機械式鞋形密封 (Mechanical Shoe Seal) ：指以一金屬薄板，
藉彈簧及重槓桿使金屬薄板垂直緊抵於儲槽之槽體壁板上，金屬
薄板另一端則以曲柄 (Braces) 連接者，屬封氣設備之一種。
二十六、浮頂負載支架 (Roof Supporting Leg)：指設於浮頂之浮筒及平
台處之浮頂支持腳，其功能係為保持浮頂與槽底間之距離，以保
護槽體壁板下部與槽底之零件與設備，並提供內部檢驗及清洗之
活動空間者。
二十七、支架襯套 (Leg Sleeve) ：指浮頂負載支架與浮頂接合部份。
二十八、自動洩氣閥 (Automatic Bleeder Vent) ：指當浮頂下降至接近
槽底時，受浮頂負載支架撐開，或當浮頂浮降中關閉，但浮頂不
浮降時則可開啟以排氣之閥。
二十九、邊緣通氣孔 (Rim Space Vent) ：指供排放浮頂下累積於浮頂邊
緣之積存空氣與未凝結蒸氣之通氣孔。
三十、支柱井 (Column Well)：指內浮頂槽內用以支撐固定頂之垂直支柱
，與內浮頂之接合部份。
三十一、樓梯井 (Ladder Well)：指自固定頂之人孔延伸至槽底之梯子，
其於浮頂上之開孔。
三十二、取樣井 (Sampling Well)：指浮頂上供採集儲存物料樣品之開孔
。
三十三、計量井 (utomatic Gauge Float Well)：指液位計浮標於浮頂上
之開孔。
三十四、壓力槽：指內部壓力大於七七三 mmHg 以上且無自由管道與大氣
連通使其操作時無任何揮發性有機物排放之儲槽。
三十五、縫隙寬度：指浮頂邊緣與儲槽內壁間之水平寬度。
三十六、裝載操作 (Loading)：指將儲存於儲槽中之揮發性有機液體經裝
載操作設施導入槽車、油罐火車或油輪之操作。
三十七、裝載操作循環 (Loading Cycle)：指物料自開始裝載入槽車、油
罐火車或油輪至物料停止裝載後其置換出之蒸氣停止逸出為止。
三十八、裝載操作設施 (Loading Rack) ：指裝載操作涵蓋之相關設施，
包括灌裝臂 (Loading Arm)、泵浦、流量計、關斷閥、釋壓閥、
管線、蒸氣收集系統及其他相關閥件等。
三十九、蒸氣收集系統 (Vapor Collection System)：指裝載操作時用以
收集被置換出之揮發性有機氣體的設備。
四十、輕質液：指在製程操作條件下製程流體為液態，且該製程流體於二
○℃時含蒸氣壓二．二五 mmHg 以上之揮發性有機物成分佔其重量
百分比二○以上者。
四十一、重質液：指輕質液以外之揮發性有機液體。
四十二、真空設備元件：指該設備元件於操作時，其所承受之絕對壓力在
七二二．五 mmHg 以下者。
四十三、難以檢測之設備元件 (Inaccessible Component) ：指不易以檢
測儀器進行一般性量測之設備元件，包括被檢測之設備元件在檢
測時有安全顧慮或設備元件所在位置高於人員可站立處二公尺以
上者。
四十四、開口閥 (Open-ended Valve) ：指閥座一側接觸製程流體，另一
側接觸大氣之閥。但不包括釋壓裝置。
四十五、線上取樣分析系統：指該取樣系統非以人工抽取式操作而係採管
線上自動採樣之儀器分析系統。
四十六、初檢測值：指檢測某設備元件逸散之揮發性有機物原始讀值。
四十七、背景濃度值：指偵測儀器在欲檢測之設備元件上風位置一公尺至
二公尺處，隨機所量得之揮發性有機物儀器讀值，若該量測位置
有遭受其他鄰近設備元件干擾時，其距離不得少於二十五公分。
四十八、淨檢測值：指初檢測值減去背景濃度值之淨值。
四十九、未可檢出定義值：指設備元件之淨檢測值為一○○ ppm。但壓縮
機之淨檢測值為五○○ ppm。
五十、洩漏定義值：指設備元件之淨檢測值二、○○○ ppm、以上。但壓
縮機之淨檢測值為五、○○○ ppm。
五十一、洩漏源：指設備元件淨檢測值超過洩漏定義值者、目視發現製程
流體自設備元件處滴漏、止漏流體軸封系統失效或設備元件應符
合未可檢出定義值而未符合者，該類設備元件均謂之洩漏源。
五十二、洩漏比例：指製程內某類設備元件流經氣體、輕質液或重質液製
程流體之洩漏源個數，佔該類元件檢測總個數之比例。
五十三、E ：經製程回收系統後，進入污染防制設備前之揮發性有機物質
量流率，單位為 kg/hr 。
五十四、Eo：經污染防制設備處理後逕排大氣之揮發性有機物質量流率，
單位為 kg/hr。
五十五、R ：揮發性有機物排放削減率，單位為％。計算公式如下：

E-Eo
R＝───×100％
E

五十六、C ：揮發性有機物排放濃度，係以凱氏溫度二七三度及一大氣壓
下未經稀釋之乾燥排氣體積為計算基準，單位為 ppm，以甲
烷表示。
五十七、MJ：百萬焦耳。
五十八、HT：設計條件下導入之廢氣 (Flare Gas)、總淨熱值，單位為 M
J/Nm3 。計算公式如下：

HT = 1.87 × 10-7 CiHi

Ci：設計條件下導入之廢氣成分溼基排放濃度，單位為 ppm，以
甲烷表示。
Hi：設計條件下導入之廢氣成分在凱氏溫度二七三度 (273K) 、
一大氣壓下、一克莫耳淨燃燒熱值，單位為 kcal/g-mole，
以甲烷焓值表示。

五十九、V ：以設計條件下導入之廢氣排氣流量 (單位為 Nm3 /sec)、除
以廢氣燃燒塔頂端截面積 (單位為 m2) 所得之排放速度，單位
為 m/sec。

六十、Vmax：設計條件下蒸氣輔助燃燒型式及無輔助燃燒型式廢氣燃燒塔
之最大允許排放速度，單位為 m/sec。計算公式如下：

Log10　(Vmax)= (ＨT+29.9)/34.0

六十一、V'max ：設計條件下空氣輔助燃燒型式廢氣燃燒塔之最大允許排
放速度，單位為 m/sec。計算公式如下：

V'max=8.112+0.615 (ＨT)

六十二、石油煉製製程：指以石油為原料，經蒸餾、精煉及摻配從事石油
製品之製造程序。
六十三、實際蒸氣壓：指以常溫儲存或裝載之物料，其於二○℃時之蒸氣
壓；非常溫儲存或裝載者，其實際操作最大溫度之蒸氣壓。
六十四、廢水收集系統：指具有收集、輸送及貯留廢水功能之單元設備，
包括箱涵、人孔及廢水坑等單元。
六十五、廢水處理設施初級處理單元設備：指以沈澱、浮除、篩除、沈砂
、磨碎或調勻等物理處理方法，去除廢水中大部分可沈降物或懸
浮固體之單元設備，包括油水分離池及調勻池等單元。

本章適用對象為石化製程使用之廢氣燃燒塔。

廢氣燃燒塔之設計條件應符合下表之規定或能使導入之揮發性有機物削減
率達百分之九十八。
┌────────┬───────────┐
│輔助燃燒型式 │總淨熱值與排放速度限值│
├────────┼───────────┤
│蒸氣輔助燃燒型式│Ht≧12MJ／Nm3 │
│ │V ≦Vmax≦114m／sec │
├────────┼───────────┤
│空氣輔助燃燒型式│Ht≧12MJ／Nm3 │
│ │V ≦V'max │
├────────┼───────────┤
│無輔助燃燒型式 │Ht≧8MJ／Nm3 │
│ │V ≦Vmax≦114m／sec │
└────────┴───────────┘

公私場所應於廢氣燃燒塔營運使用前，向地方主管機關提報廢氣燃燒塔使
用報告書。
前項廢氣燃燒塔使用報告書內容有異動者，應於異動前報請地方主管機關
備查。
前項廢氣燃燒塔使用報告書之內容應包括下列事項：
一、廢氣燃燒塔之設計及操作條件說明，包含設計規格、廢氣代表成份、
總淨熱值及排放速度等。
二、廢氣燃燒塔之監測設施說明。
三、進廢氣採樣位置及分析作業說明。
四、達到最小排放量之使用計畫。
中華民國九十四年九月十二日修正發布之條文施行日前設立之廢氣燃燒塔
，應於中華民國九十五年三月三十一日前提報第一項之廢氣燃燒塔使用報
告書。

廢氣燃燒塔之母火不可熄滅。廢氣燃燒塔應設置感知器或監視器，並於進
廢氣管線設置廢氣流量指示器，且每年校正一次。
公私場所應記錄廢氣燃燒塔之母火監控情形、操作時間、廢氣流量、排放
速度及廢氣流量指示器校正情形。
公私場所應於每年一月、四月、七月及十月之月底前，向地方主管機關申
報前一季廢氣燃燒塔之操作時間、廢氣流量、排放速度及排放量計算結果
資料。
第二項廢氣燃燒塔母火監控紀錄應保存二星期備查；操作時間、廢氣流量
、排放速度及廢氣流量指示器校正紀錄應保存五年備查。

石油煉製製程使用之廢氣燃燒塔其廢氣排放速度大於設計值百分之十達連
續十五分鐘之異常狀況時，公私場所應於三十分鐘內完成進廢氣採樣，其
樣品應進行熱值分析。
前項異常狀況及熱值分析結果應作成紀錄，併前條第三項紀錄申報。

本章適用對象為石化製程之排放管道。但下列石化製程不適用本章規定：
一、產製食用酒精之製程。
二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。
三、排氣中揮發性有機物排放量小於三五○ mg/min、(揮發性有機物排放
量以甲烷表示) 之批次操作製程。
四、排氣流量小於六○ Nm3/hr 之連續操作製程。
五、其他經中央主管機關公告之製程。

石化製程排放管道排氣應以密閉排氣系統收集。但採密閉排氣系統有困難
並報經主管機關核可者，不在此限。
前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉排氣系統者，應適用排放削減率
(R) 之規定。
┌─────┬────┬───────┬───────────┐
│污 染 源│適用對象│排 放 標 準│ 備 註 │
├─────┼────┼───────┼───────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排│控制或處理前排放濃度達│
│ │二月六日│放削減率 (R) │一五○○ppm 以者僅適用│
│ │以前設立│達百分之九十或│排放濃度規定。但已達最│
│ │者 │排放濃度 (C)一│佳可行控制技術之效率者│
│空氣氧化單│ │五○ ppm 以下│，不在此限。 │
│元及蒸餾操├────┼───────┼───────────┤
│作單元 │八十六年│揮發性有機物排│控制或處理前排放濃度達│
│ │二月七日│放削減率 (R) │二○○○ppm 者僅適用排│
│ │以後設立│達百分之九十五│放濃度規定。但已達最佳│
│ │者 │或排放濃度 (C)│可行控制技術之效率者，│
│ │ │一○○ ppm以下│不在此限。 │
├─────┼────┼───────┼───────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排│控制或處理前排放濃度達│
│ │二月六日│放削減率 (R) │二○○○ppm 者僅適用排│
│ │以前設立│達百分之九十或│放濃度規定。但已達最佳│
│ │者 │排放濃度 (C)二│可行控制技術之效率者，│
│其他石化製│ │○○ ppm 以下│不在此限。 │
│程單元 ├────┼───────┼───────────┤
│ │八十六年│揮發性有機物排│控制或處理前排放濃度達│
│ │二月七日│放削減率 (R) │三○○○ppm 者僅適用排│
│ │以後設立│達百分之九十五│放濃度規定。但已以達最│
│ │者 │或排放濃度 (C)│佳可行控制技術之效率者│
│ │ │一五○ ppm以下│，不在此限。 │
└─────┴────┴───────┴───────────┘
第一項以密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者，其鍋爐或加熱爐負荷
應維持揮發性有機污染物削減率達百分之九十五。
石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式者，其揮發性有機物
排放標準為排放削減率 (R) 達百分之八十五或排放濃度 (C) 三○○
ppm 以下。

石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定：
一、廢氣導入處設置流量監測設備。
二、設置溫度連續監測及記錄設施，設置位置如下：
(一) 熱焚化爐應於爐膛內設置。
(二) 觸媒焚化爐應於觸媒床前後均設置。
(三) 冷凝器應於冷凝液出口端設置。
三、使用前款以外之污染防制設備者，應設置足以有效監視其正常操作之
連續監測及記錄設施，並提出書面資料報經主管機關核可。
前項使用焚化設施為污染防制設備者，其溫度監測設施所得之連續三小時
平均溫度，不得低於標準操作溫度三○ oC 以上。
公私場所依第一項設置流量監測設備有困難者，報請地方主管機關核可後
，得以其他監測方式替代。

本章適用對象為公私場所之揮發性有機液體儲槽具有下列情形之一者：
一、單一儲槽容積十五立方公尺以上，且儲存物料之實際蒸氣壓一七○
mmHg 以上者。
二、單一儲槽容積一○○立方公尺以上，且儲存物料之實際蒸氣壓二十一
mmHg 以上者。
三、單一儲槽容積二、○○○立方公尺以上，且儲存物料含二甲苯者。
四、同一公私場所相同儲存物料實際蒸氣壓二十一 mmHg 以上之總儲槽容
積五○○立方公尺以上者。
前項儲槽具有下列情形者，不在此限。
一、槽體設計操作壓力大於一五五○ mmHg 之壓力槽，且於正常操作情形
無廢氣排放至大氣者。
二、儲存食用酒精之儲槽。
三、加油站之儲油槽。

揮發性有機液體儲槽儲存物料之實際蒸氣壓五七○ mmHg 以上者應符合下
列規定之一：
一、採用壓力槽。
二、非採用壓力槽者，應裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火
焰區，或其他使揮發性有機物排放削減率 (R) 達百分之九十五或排
放濃度 (C) 一○○ ppm 以下之污染防制設備。
揮發性有機液體儲槽儲存物料之實際蒸氣壓小於五七○ mmHg 者應符合下
列規定之一：
一、採用浮頂槽。
二、採用固定頂槽者，應裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火
焰區，或其他使揮發性有機物排放削減率 (R) 達百分之九十五或排
放濃度 (C) 一五○ ppm 以下之污染防制設備。
儲槽之排氣係採非破壞性物料回收處理方式，其揮發性有機物排放削減率
(R) 達百分之八十五或排放濃度 (C) 三○○ ppm 以下者，得不受前
二項之限制。

揮發性有機液體儲槽採內浮頂槽者應符合下列規定：
一、浮頂應隨時保持浮於儲存物料之液面上。但儲槽排空時，不在此限。
二、浮頂與槽壁間應安裝下列之一封氣設備：
(一) 液態鑲嵌式密封。
(二) 雙封式密封。
(三) 機械式鞋形密封。
(四) 其他經主管機關核可之封氣設備。
三、非接觸式內浮頂蓋之每個開口均應伸入液面下。但自動洩氣閥及邊緣
通氣孔，不在此限。
四、浮頂上之開口於不使用時，應以具襯墊之封蓋保持密閉狀態，人員進
出口及計量井應另加閂鎖。但支架襯套、自動洩氣閥、邊緣通氣孔、
支柱井、樓梯井及取樣井，不在此限。
五、自動洩氣閥應具襯墊，於浮頂浮動時關閉，在浮頂下降至槽底受浮頂
負載支架支持時開啟。
六、邊緣通氣孔應具襯墊，且僅於浮頂未浮動或在設定條件之狀況下開啟
。
七、取樣井應具備縫隙開孔構造之封蓋 (Slit Fabric Cover)，該封蓋之
覆蓋面積達開孔面積百分之九○。
八、支柱井應採具彈性構造之襯套密封或具襯墊之滑動封蓋。
九、樓梯井應採具襯墊之滑動封蓋。

揮發性有機液體儲槽採外浮頂槽於中華民國八十六年二月六日以前已設立
者，其浮頂與儲槽內壁間之封氣設備可採單封式或雙封式密封；但單封式
密封應為液態鑲嵌式密封或機械式鞋形密封。於中華民國八十六年二月七
日以後設立者，其浮頂與儲槽內壁間之封氣設備應採雙封式密封，初級密
封應為液態鑲嵌式密封、機械式鞋形密封或其他經主管機關核可之封氣設
備，且初級密封與二級密封應裝入浮頂與槽壁間之環狀空間。
前項所列封氣設備應符合下列規定：
一、初級密封
(一) 任何地方之縫隙寬度不可大於三公分。
(二) 當機械式鞋形密封的一端已浸在儲存液體中時，另一端應離液面六
十公分以上。
(三) 機械式鞋形密封、密封構造或密封物之外皮 (Envelope) 不可有破
洞、裂縫或任何開口。
二、二級密封或單封式密封
(一) 任何地方之縫隙寬度不可大於一公分。
(二) 密封裝置不可有破洞、裂縫或任何開口。
三、準用前條第一款、第三款至第六款。

揮發性有機液體儲槽採浮頂槽之檢查與修護應符合下列規定：
一、內浮頂槽
(一) 於首次進料前應目視檢查浮頂及密封，若發現破洞、裂縫或其他開
口，應於修護完成後始可進料。
(二) 配備液態鑲嵌式密封或機械式鞋形密封或其他單封式封氣設備之儲
槽，自首次進料後每十二個月應經由固定頂上之人孔及頂艙口，目
視檢查浮頂及密封；配備雙封式密封之儲槽應每五年目視檢查一次
。
(三) 浮頂未浮在液面上、浮頂上有液體累積現象或密封上有破洞或裂縫
者，應自檢查發現日起九十日內完成修護或排空儲槽停止使用。無
法於九十日內完成修護或排空儲槽者應檢具文件說明無法取得替代
儲槽及預定儘速修護或排空儲槽之時間表，經主管機關核准後，始
得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過一八○日。
二、外浮頂槽
(一) 應定期量測縫隙寬度並於量測三十日前通知主管機關，其量測頻率
如下：
1.初級密封縫隙寬度之初次量測應在儲槽水壓測試期間或儲槽首次
進料後六十日內進行，其後應每五年量測一次。
2.二級密封或採單封式密封之縫隙寬度之初次量測應在儲槽首次進
料後六十日內進行，其後應每年量測一次。
3.若儲槽停止儲存物料一年以上，俟其重新使用時視為首次進料，
需進行前述 1、2 之量測。
(二) 儲槽縫隙寬度及封氣設備，經檢查或量測結果未能符合第十四條規
定者，應自檢查發現日起九十日內完成修護或排空儲槽停止使用。
無法於九十日內完成修護或排空儲槽者，應檢具文件說明無法取得
替代儲槽及預定儘速修護或排空儲槽之時間表，經主管機關核准後
，始得展延修護或排空儲槽期限，展延期間不得超過一八○日。
(三) 每次儲槽排空後，應目視檢查浮頂及其封氣設備是否有任何缺陷、
破洞、裂縫或開口。

揮發性有機液體儲槽記錄、保存與申報規定如下：
一、設備檢查或量測應做成紀錄，包括儲槽編號、檢查或量測日期、檢查
或量測結果、設備受檢時之狀況。
二、檢查或量測結果不符合第十三條及第十四條之規定者，應將記載包括
儲槽編號、檢查日期、不符合規定情形、預定維修日期等相關資料於
十五日內提報地方主管機關，並在修護完成後三十日內通知該主管機
關。
三、第一款之紀錄檔案應保存五年。

公私場所進行單一儲槽容積一○○立方公尺以上且儲存物料實際蒸氣壓一
七○ mmHg 以上揮發性有機液體儲槽之清洗作業，應於儲存物料排空後有
效收集儲槽內氣體，且收集效率達百分之九十五；收集之氣體並應有效處
理，使揮發性有機物排放削減率 (R) 達百分之九十時，始得開槽清洗。
前項儲槽清洗作業之氣體收集、處理及其削減率應作成紀錄，並保存五年
備查。
公私場所應於執行第一項儲槽清洗作業日起五日前通知地方主管機關。

揮發性有機液體儲槽污染防制設備之流量監測設備及連續自動監測設施適
用第十條之規定。

本章適用對象為公私場所之揮發性有機液體裝載操作設施具有下列情形之
一者：
一、單一裝載操作設施之年裝載量五○○立方公尺以上，且裝載之物料實
際蒸氣壓一七○ mmHg 以上者。
二、單一裝載操作設施之年裝載量三、五○○立方公尺以上，且裝載之物
料實際蒸氣壓二十一 mmHg 以上者。
三、單一裝載操作設施之年裝載量三、五○○立方公尺以上，且裝載之物
料含二甲苯者。
前項裝載操作設施屬加油站內以加油槍進行油箱注油作業者，不在此限。

揮發性有機液體裝載操作設施應配備蒸氣收集系統連通至下列設備之一：
一、鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區。
二、具有第十二條規定之儲槽。
三、能使揮發性有機物排放削減率 (R)、達百分之九○或排放濃度 (C)
二○○ ppm 以下之污染防制設備。
裝載操作設施之排氣係採非破壞性物料回收處理方式，其揮發性有機物排
放削減率 (R) 達百分之八十五或排放濃度 (C) 三○○ ppm 以下者，
得不受前項之限制。

揮發性有機液體裝載操作設施污染防制設備之流量監測設備及連續自動監
測設施適用第十條之規定。

公私場所應記錄揮發性有機液體裝載操作設施每次操作之操作時間、裝載
量及裝載之物料，並保存五年備查。
前項紀錄應於每年一月、四月、七月及十月底前向地方主管機關申報前一
季資料。

本章適用對象為石化製程及第十一條規定揮發性有機液體儲槽之設備元件
，包括泵浦、壓縮機、釋壓閥、安全閥等釋壓裝置、取樣連接系統、開口
閥、閥、法蘭或與製程設備銜接之其他連接頭。但下列設備元件不適用本
章規定：
一、流經該設備元件之流體中，其所含揮發性有機物之重量百分比小於一
○者。
二、屬於真空設備元件者。
三、設備元件埋於地下無法量測者。

公私場所設備元件之洩漏管制規定如下：
一、設備元件軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，滴漏不得超過每分
鐘三滴。
二、設備元件之淨檢測值不得大於一○、○○○ppm。
三、設備元件之淨檢測值大於五、○○○ppm 之比例不得大於百分之二。
四、開口閥之下游端應裝設栓蓋 (Cap)、盲法蘭 (Blind Flange) 、栓塞
(Plug) 或二次閥 (Second Valve) 以封止其開口端。但實際操作中
製程流體需自開口閥排出者，不在此限。
五、輕質液及氣體取樣連接系統應符合下列規定之一：
(一) 取樣連接系統裝設有密閉排氣系統連通至污染防制設備，且該污染
防制設備符合第二十五條第三款第二目之規定。
(二) 採用密閉迴路式取樣連接系統。
(三) 採用線上取樣分析系統者。
前項第一款至第三款不適用已依第二十九條第二款規定標示標籤，且依第
二十八條第一款規定期限內修護之設備元件。

公私場所應依下列規定進行設備元件洩漏檢查 (測) ：
一、輕質液泵浦應每週目視檢查其軸封處是否有製程流體滴漏。
二、重質液設備元件應每三個月目視檢查或以嗅聞、聽覺等其它簡易方法
檢漏；發現有洩漏跡象者，應於五日內使用偵測儀器予以檢測，以確
認是否為洩漏源。
三、輕質液及氣體設備元件應每三個月檢測一次。但符合下列規定之一者
，不在此限：
(一) 設備元件為無洩漏型式且小於或等於未可檢出定義值者。
(二) 設備元件裝設密閉排氣系統連通至鍋爐或加熱爐之爐膛火焰區或其
他使揮發性有機物排放削減率 (R) 達百分之九十五之污染防制設
備。
(三) 輕質液泵浦、氣體壓縮機具止漏流體軸封系統，且該系統符合下列
規定者：
1.止漏流體之操作壓力恆大於軸封填料箱 (Stuffing Box) 壓力。
2.裝設可監測止漏流體軸封系統異常或失效之警報裝置；未裝設警
報裝置者，應每日檢查軸封系統並作成紀錄。
3.軸封系統之設計具備可將止漏流體吹排回製程流體或密閉排氣系
統者。
四、屬於難以檢測之重質液設備元件應每四年檢查一次；屬於難以檢測之
輕質液及氣體設備元件應每二年檢測一次。
五、輕質液及氣體設備元件連續六個月洩漏比例均小於百分之二，得每六
個月檢測一次；連續一年洩漏比例均小於百分之一者，得每一年檢測
一次。但檢測發現其洩漏比例百分之二以上者，應每三個月檢測一次
；洩漏比例百分之一以上且未達百分之二者，應每六個月檢測一次。
六、氣體釋壓裝置每三個月及每次釋壓排放後五日內應以偵測儀器檢測一
次，以判定其是否小於或等於未可檢出定義值。但氣體釋壓裝置裝設
有密閉排氣系統連通至污染防制設備，且該污染防制設備符合本條第
三款第二目之規定者，或前端裝置破裂盤者，可免除檢測。
公私場所依前項第一款至第四款進行設備元件檢查 (測) 有困難者，應報
經地方主管機關核可後，得以其他檢查 (測) 方式替代。

中華民國九十四年九月十二日修正發布之條文施行日前設立之下列設備元
件者，應於下列規定時限完成建檔及首次檢查 (測) ，其後之檢查 (測)
應依第二十五條規定辦理：
一、輕質液及氣體設備元件 (輕質液泵浦、輕質液閥、氣體壓縮機、氣體
閥及氣體釋壓裝置除外) ：中華民國九十五年六月三十日。
二、屬於難以檢測之重質液設備元件：中華民國九十七年十二月三十一日
。
三、屬於難以檢測之輕質液及氣體設備元件：中華民國九十五年十二月三
十一日。
中華民國九十四年九月十二日修正發布之條文施行日前設立之重質液設備
元件，應於中華民國九十五年六月三十日前完成建檔。

公私場所經主管機關於其周界遙測篩選結果超過固定污染源空氣污染物排
放標準之周界排放標準時，主管機關得通知其於一個月內，完成指定石化
製程之設備元件或其他設備之檢查作業。
公私場所有實際困難無法於前項一個月內完成指定石化製程之檢查作業者
，於報經主管機關核可後，得展延檢查作業時間。

公私場所應依下列規定進行設備元件修護：
一、設備元件經發現為洩漏源者，除有特別規定其修護期限得予展延外，
應依下列規定期限完成修護：
(一) 洩漏源軸封處之製程流體包括重質液及輕質液，滴漏每分鐘超過三
滴者，應自發現時起四十八小時內完成修護。
(二) 除開口閥、取樣連接系統及已依規定標示標籤者外之設備元件，其
每日隨機檢測之洩漏比例超過百分之二者，應自發現時起七十二小
時內完成修護。
(三) 壓縮機淨檢測值達一○、○○○ ppm 或其他洩漏源淨檢測值達五
、○○○ ppm 者，應自發現時起七十二小時內完成修護。
(四) 壓縮機淨檢測值達五、○○○ ppm、氣體釋壓裝置達一○○ ppm
或其他洩漏源淨檢測值達二、○○○ ppm 者，應自發現日起七日
內完成修護。
二、前款所稱特別規定係指有下列情形之一者：
(一) 除該製程停車外，其洩漏源之修護在技術上有困難者。
(二) 該洩漏源已與運轉中之製程隔離 (Isolation)，不再繼續使用或操
作者。
(三) 若採立即修護，其所導致之揮發性有機物排放遠大於該洩漏源排放
者。
(四) 該洩漏源無法藉維修方式達到管制標準，而需以汰換或設備改良方
式進行改善者。
(五) 其他可資證明其延長修護係因技術上之困難理由者。
三、因前款所列情形導致修護期限展延之洩漏源，應於下次停車期間內完
成修護。距離下次停車時間超過六個月者，公私場所於第二十九條第
五款申報時，應一併申報洩漏源之維護措施說明。
四、第一款所稱完成修護係指修護後符合該款各目之規定。

公私場所應下列規定進行設備元件洩漏檢查 (測) 之記錄、保存及申報：
一、設備元件之定期檢查 (測) 應做成紀錄，包括檢查方式或使用之檢測
儀器型式、檢查 (測) 人員姓名、元件編號、元件型式、流體組成、
檢查 (測) 日期及結果。
二、設備元件經檢查 (測) 判定為洩漏源者，應將相關資料記錄在維護紀
錄表上，包括檢查方式或使用之檢測儀器型式、檢查 (測) 人員姓名
、洩漏源之元件編號、洩漏發現日期、修護完成日期、修護方法、未
能於規定期限完成修護之延誤理由，並應以防水且易識別之標籤註明
其元件編號、洩漏發現日期及時間、預定修護日期標示在洩漏源上，
當修護完成後應即予拆除。
三、檢測儀器之校正、保養及維護資料應予記錄。
四、第一款至第三款紀錄資料應製成檔案，保存五年備查。
五、公私場所應於每年一月、四月、七月及十月之月底前，向地方主管機
關申報前一季之第一款紀錄。

石化製程設備元件污染防制設備之流量監測設備及連續自動監測設施適用
第十條之規定。

本章適用對象為石化製程之廢水收集系統及廢水處理設施初級處理單元設
備。但下列廢水處理設施不適用本章規定：
一、廢水處理設施設計最大每日廢水產生量小於二、五○○立方公尺者。
二、石化製程之廢水處理設施初級處理單元設備進流廢水，依中央主管機
關所定之檢測方法測定其揮發性有機物濃度小於一○ mg/L 者。
三、廢水處理設施廢水實際最大每日廢水產生量持續一年小於一、二五○
立方公尺者。

廢水收集系統之廢水液面不得與大氣接觸。
廢水處理設施初級處理單元設備應符合下列規定之一：
一、採用密閉排氣系統連通至污染防制設備，使揮發性有機物排放削減率
(R) 達百分之八十五或排放濃度 (C)一五○ ppm 以下。
二、設置符合排氣管規格之固定頂蓋，且廢水直接進流活性污泥處理單元
處理。
三、採用浮動式頂蓋。
四、採用其他經證明符合第一款排放削減率 (R)、或排放濃度 (C) 之防
制措施，並報經地方主管機關核可者。
前項第二款排氣管規格，依下列公式計算之：

排氣管規格＝ (S×Z) / (A×H) ×100％＜5 ％

S ：排氣管內徑面積 (m2)
Z ：液面距設備上緣之最小距離 (m)
A ：設備液面面積 (m2)
H ：排氣管高度 (m)

中華民國九十四年九月十二日修正發布之條文施行日前設立之揮發性有機
液體儲槽、揮發性有機液體裝載操作設施及廢水處理設施符合附表條件者
，其施行日期依附表規定。
本標準除另定施行日期者外，自發布日施行。