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全國法規資料庫

列印時間:113/11/21 23:31
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編章節條文

法規名稱: 揮發性有機物空氣污染管制及排放標準
法規類別: 行政 > 環境部 > 大氣環境目
附檔:
※歷史法規係提供九十年四月以後法規修正之歷次完整舊條文。
※如已配合行政院組織改造,公告變更管轄或停止辦理業務之法規條文,請詳見沿革
第 三 章 製程設施
本章適用對象為公私場所具有石化製程之設施。但下列石化製程之設施不適用本章規定:
一、產製食用酒精之製程。
二、以石化中間產品為原料進行物理加工之製程。
三、排氣中揮發性有機物排放量小於三百五十mg/min(揮發性有機物排放量以甲烷表示)之批次操作製程。
四、排氣流量小於六十Nm³/hr之連續操作製程。
五、其他經中央主管機關公告之製程。
(因條文排版無法完整呈現內容,請詳閱完整條文檔案)
石化製程原(物)料或產品輸送管線不得破損,且排放管道排氣應以密閉集氣系統收集。但採密閉集氣系統有困難並報經主管機關核可者,不在此限。
前項排氣之排放標準如下表。但未採密閉集氣系統者,應適用削減率之規定。
第一項以密閉集氣系統連通至鍋爐或加熱爐處理者,其鍋爐或加熱爐負荷應維持削減率達百分之九十五。
石化製程排放管道排氣採非破壞性物料回收處理方式者,其削減率達百分之八十五或揮發性有機物排放濃度三百ppm以下。
石化製程排放管道之污染防制設備應符合下列規定:
一、廢氣導入處設置流量計及連續紀錄設施。
二、設置溫度量測器及連續紀錄設施,設置位置如下:
(一)熱焚化爐爐膛內。
(二)觸媒焚化爐觸媒床前後。
(三)冷凝器冷凝液出口端。
三、使用前款以外之污染防制設備者,應設置足以有效監視其正常操作之連續監測及紀錄設施,並提出書面資料報經主管機關核可。
前項使用焚化設施為污染防制設備者,其溫度量測器所得之連續三小時平均溫度,不得低於標準操作溫度三十℃以上。
公私場所依第一項設置流量計有困難者,報請地方主管機關核可後,得以其他監測方式替代。
資料來源:全國法規資料庫