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相關法條

法規名稱: 公共危險物品及可燃性高壓氣體製造儲存處理場所設置標準暨安全管理辦法 EN
六類物品製造場所及一般處理場所,其外牆或相當於該外牆之設施外側,與廠區外鄰近場所之安全距離如下:
一、與下列場所之距離,應在五十公尺以上:
(一)古蹟。
(二)設備標準第十二條第二款第四目所列場所。
二、與下列場所之距離,應在三十公尺以上:
(一)設備標準第十二條第一款第一目至第五目、第七目、第二款第一目、第二目及第五目至第十一目規定之場所,其收容人員在三百人以上者。
(二)設備標準第十二條第一款第六目、第二款第三目及第十二目規定之場所,其收容人員在二十人以上者。
三、與公共危險物品及可燃性高壓氣體製造、儲存或處理場所、加油站、加氣站、天然氣儲槽、可燃性高壓氣體儲槽、爆竹煙火製造、儲存、販賣場所及其他危險性類似場所之距離,應在二十公尺以上。
四、與前三款所列場所以外場所之距離,應在十公尺以上。
五、與電壓超過三萬五千伏特之高架電線之距離,應在五公尺以上。
六、與電壓超過七千伏特,三萬五千伏特以下之高架電線之距離,應在三公尺以上。
前項安全距離,於製造場所及一般處理場所設有擋牆防護或具有同等以上防護性能者,得減半計算之。
一般處理場所之作業型態、處理數量及建築物內使用部分之構造符合第十五條之一規定者,不適用第一項規定。
公共危險物品及可燃性高壓氣體製造儲存處理場所設置標準暨安全管理辦法 (民國 110 年 11 月 10 日 ) EN 本法規部分或全部條文尚未生效
一般處理場所之作業型態及處理數量符合下列規定,且於建築物內使用部分之構造符合附表一之一規定者(一般處理場所使用部分範例示意圖如附圖一),該部分得不適用前條第一項第二款至第五款及第七款規定:
一、噴漆、塗裝及印刷作業場所,使用第二類或第四類公共危險物品(不含特殊易燃物),且處理數量未達管制量三十倍。
二、清洗作業場所,使用閃火點在攝氏四十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量三十倍。
三、淬火作業場所,使用閃火點在攝氏七十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量三十倍。
四、鍋爐設備場所,使用閃火點在攝氏四十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量三十倍。
五、油壓設備場所,使用高閃火點物品其操作溫度未滿攝氏一百度,且處理數量未達管制量五十倍。
六、切削及研磨設備場所,使用高閃火點物品其操作溫度未滿攝氏一百度,且處理數量未達管制量三十倍。
七、熱媒油循環設備場所,使用高閃火點物品,且處理數量未達管制量三十倍。
一般處理場所之作業型態及處理數量符合下列規定,且於建築物內使用部分之構造符合一定安全規範者(一般處理場所使用部分範例示意圖如附圖二),該部分得不適用前條第一項第二款至第七款規定:
一、清洗作業場所,使用閃火點在攝氏四十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量十倍。
二、淬火作業場所,使用閃火點在攝氏七十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量十倍。
三、鍋爐設備場所,使用閃火點在攝氏四十度以上之第四類公共危險物品,且處理數量未達管制量十倍。
四、油壓設備場所,使用高閃火點物品其操作溫度未滿攝氏一百度,且處理數量未達管制量三十倍。
五、切削及研磨設備場所,使用高閃火點物品其操作溫度未滿攝氏一百度,且處理數量未達管制量十倍。
前項所稱一定安全規範如下:
一、設於一層建築物。
二、建築物之牆壁、樑、柱、地板及屋頂,應以不燃材料建造,且不得設置天花板。
三、處理設備應固定於地板。
四、處理設備四周應有寬度三公尺以上之保留空地(保留空地範例示意圖如附圖三)。但符合下列各款規定者,不在此限:
(一)因牆壁及柱致無法保有三公尺以上之保留空地,且牆壁及柱均為防火構造。
(二)前目牆壁除出入口外,不得設置其他開口,且出入口應設置一小時以上防火時效之常時關閉式防火門。
五、處理設備下方之地板及四周保留空地,應採用不滲透構造,且作適當之傾斜,並設置集液設施。但設有洩漏承接設施及洩漏檢測設備,能立即通知相關人員有效處理者,得免作適當之傾斜及設置集液設施。
各類場所消防安全設備設置標準 (民國 110 年 06 月 25 日 ) EN 本法規部分或全部條文尚未生效
各類場所按用途分類如下:
一、甲類場所:
(一)電影片映演場所(戲院、電影院)、歌廳、舞廳、夜總會、俱樂部、理容院(觀光理髮、視聽理容等)、指壓按摩場所、錄影節目帶播映場所(MTV等)、視聽歌唱場所(KTV等)、酒家、酒吧、酒店(廊)。
(二)保齡球館、撞球場、集會堂、健身休閒中心(含提供指壓、三溫暖等設施之美容瘦身場所)、室內螢幕式高爾夫練習場、遊藝場所、電子遊戲場、資訊休閒場所。
(三)觀光旅館、飯店、旅館、招待所(限有寢室客房者)。
(四)商場、市場、百貨商場、超級市場、零售市場、展覽場。
(五)餐廳、飲食店、咖啡廳、茶藝館。
(六)醫院、療養院、榮譽國民之家、長期照顧服務機構(限機構住宿式、社區式之建築物使用類組非屬H-2之日間照顧、團體家屋及小規模多機能)、老人福利機構(限長期照護型、養護型、失智照顧型之長期照顧機構、安養機構)、兒童及少年福利機構(限托嬰中心、早期療育機構、有收容未滿二歲兒童之安置及教養機構)、護理機構(限一般護理之家、精神護理之家、產後護理機構)、身心障礙福利機構(限供住宿養護、日間服務、臨時及短期照顧者)、身心障礙者職業訓練機構(限提供住宿或使用特殊機具者)、啟明、啟智、啟聰等特殊學校。
(七)三溫暖、公共浴室。
二、乙類場所:
(一)車站、飛機場大廈、候船室。
(二)期貨經紀業、證券交易所、金融機構。
(三)學校教室、兒童課後照顧服務中心、補習班、訓練班、K 書中心、前款第六目以外之兒童及少年福利機構(限安置及教養機構)及身心障礙者職業訓練機構。
(四)圖書館、博物館、美術館、陳列館、史蹟資料館、紀念館及其他類似場所。
(五)寺廟、宗祠、教堂、供存放骨灰(骸)之納骨堂(塔)及其他類似場所。
(六)辦公室、靶場、診所、長期照顧服務機構(限社區式之建築物使用類組屬H-2之日間照顧、團體家屋及小規模多機能)、日間型精神復健機構、兒童及少年心理輔導或家庭諮詢機構、身心障礙者就業服務機構、老人文康機構、前款第六目以外之老人福利機構及身心障礙福利機構。
(七)集合住宅、寄宿舍、住宿型精神復健機構。
(八)體育館、活動中心。
(九)室內溜冰場、室內游泳池。
(十)電影攝影場、電視播送場。
(十一)倉庫、傢俱展示販售場。
(十二)幼兒園。
三、丙類場所:
(一)電信機器室。
(二)汽車修護廠、飛機修理廠、飛機庫。
(三)室內停車場、建築物依法附設之室內停車空間。
四、丁類場所:
(一)高度危險工作場所。
(二)中度危險工作場所。
(三)低度危險工作場所。
五、戊類場所:
(一)複合用途建築物中,有供第一款用途者。
(二)前目以外供第二款至前款用途之複合用途建築物。
(三)地下建築物。
六、其他經中央主管機關公告之場所。