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條文內容

法規名稱: 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 EN
法規類別: 行政 > 行政院環境保護署 > 空氣品質保護目
第 6 條
揮發性有機物、三氯乙烯、硝酸、硫酸、鹽酸、磷酸、氫氟酸等之紀錄、
保存、檢測與申報規定如下:
一、空氣污染物輸入量 (以溶劑或其他型式輸入製程之量) 、輸出量 (隨
廢溶劑、廢棄物、廢水或其他型式輸出製程之量) 、污染防制設備削
減量等資料應每月記錄。
二、污染防制設備為酸鹼洗滌吸收設施者,應記錄保養維護事項,以確保
潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設施規範,並每日記錄各洗滌槽
洗滌循環水量及 pH 值。
三、污染防制設備為清水洗滌吸收設施者,應記錄保養維護事項,以確保
潤濕因子及填充段空塔滯留時間符合設施規範,並每日記錄各洗滌槽
洗滌循環水量及廢水排放流量。
四、污染防制設備為冷凝器者,應每月記錄冷凝液量及每日記錄冷凝器出
口溫度。
五、污染防制設備為生物處理設施者,應記錄保養維護事項,以確保該設
施之狀態適合生物生長代謝,並每日記錄處理氣體風量、進口溫度及
出口相對濕度。
六、污染防制設備為熱焚化爐者,應每日記錄燃燒溫度。
七、污染防制設備為觸媒焚化爐者,應記錄觸媒種類、觸媒床更換日期,
並每日記錄觸媒床進、出口氣體溫度。
八、以其他污染防制設備處理者,應記錄保養維護事項,並每日記錄主要
操作參數。
九、揮發性有機物之污染防制設備設有濃度監測器者,其去除率或排放量
應根據自動監測結果之日平均值以上次比測結果修正後計算,並每日
記錄。
十、揮發性有機物之污染防制設備未設有濃度監測器者,其處理前後之濃
度及排放量每年至少需檢測一次,檢測時需記錄當時製程及處理設備
之操作條件。每次檢測至少八小時,檢測報告應含所測得濃度之測值
、小時平均值及總平均值。計算防制設備去除率及排放量時,應採用
所測得濃度之總平均值。
十一、三氯乙烯之污染防制設備處理前後之濃度及排放量每年至少需檢測
一次,檢測時需記錄當時製程及處理設備之操作條件。每次檢測至
少八小時,每小時至少檢測三個樣品,檢測報告應含所測得濃度之
各測值、小時平均值及總平均值。計算防制設備去除率及排放量時
,應採用所測得濃度之總平均值。
十二、第一款至第十一款之使用、操作及檢測紀錄需保存至少二年,並依
中央主管機關規定之格式於每年一、四、七、十月月底前向當地主
管機關申報上一季之紀錄。主管機關得適時調整申報內容及頻率。