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全國法規資料庫

列印時間:113/12/03 17:18
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條文內容

法規名稱: 半導體製造業空氣污染管制及排放標準 EN
法規類別: 行政 > 環境部 > 大氣環境目
※歷史法規係提供九十年四月以後法規修正之歷次完整舊條文。
※如已配合行政院組織改造,公告變更管轄或停止辦理業務之法規條文,請詳見沿革
第 7 條
既存製程未能符合第四條排放標準或第五條設置規定者,公私場所應於本標準修正施行後六個月內,檢具空氣污染改善計畫,向直轄市、縣(市)主管機關申請核定改善期限,並應於期限屆滿前完成改善至符合本標準之規定。
前項空氣污染改善計畫至少應包含製程原(物)料、設施或防制設備改善種類、構造、效能、流程、設計圖說、設置經費及進度,且其改善期限不得逾十八個月。
未能於第一項核定改善期限內完成改善者,公私場所得於期限屆滿前一至三個月內,檢具展延說明、規劃及變更改善計畫,向直轄市、縣(市)主管機關申請核准展延改善期限,展延之改善期限不得逾十二個月。但展延改善經直轄市、縣(市)主管機關另予核准改善期限者,不在此限。
資料來源:全國法規資料庫